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Device

装置

ARIMに参画している全国の大学などが登録する設備機器は多種多様です。
原子レベルの大きさを観察できる電子顕微鏡、化合物の構造を分析できる核磁気共鳴装置、イオンの質量を測定する質量分析装置など研究開発を加速させる設備機器がそろっています。

[BL14B1]エネルギー分散型XAFS(DXAFS)装置

二結晶分光器を用いた通常型X線吸収分光(XAFS)測定に加え、湾曲分光結晶を用いた分散型XAFS測定を行うことができる。
通常型XAFS測定では、蛍光法において36素子半導体検出器を使用。
試料温度は20~1073K。ガス制御システムによる一酸化炭素・一酸化窒素を含んだ雰囲気制御や、四重極質量分析器によるガス成分分析も実施可能。

利用例

[BL22XU]κ型X線回折計

通常の6軸の他、全系の水平面内回転軸を有し、表面構造解析にも適するκ型回折計。ポテンショスタット等を用いた電気化学特性の同時測定可能。
試料温度はHe循環型冷凍機使用で10Kまで、電気炉使用で1000Kまで。

利用例

[BL22XU]応力・イメージング測定装置

金属材料を中心とした内部ひずみ・応力分布、イメージング測定が可能。
高温(最大900℃)負荷(最大5kN)装置により実環境その場測定が可能。
複数の2次元検出器を同時に利用することで、ひずみ・応力は最速200Hz、イメージングは2000Hzで時分割測定が可能。

利用例

[BL22XU]高輝度XAFS測定装置

アンジュレータからの高輝度・高エネルギーX線を利用したXAFS測定が可能。
時分割高速計測(Quick-XAFS)にも対応する。
検出器はイオンチェンバー、NaIシンチレーション、Ge半導体など各種用意。
低温測定のためのクライオスタットも整備している。

利用例

[BL23SU]表面化学実験ステーション

金属および半導体表面での吸着・脱離、酸化・還元等の化学反応のダイナミクスをその場観察、リアルタイム測定可能。表面準備室内ではArイオンスパッタリングと1450Kまでの加熱で表面清浄化可能。
再構成表面・化学組成観察用にLEED、AES装置付属。
ガスドーザや超音速分子線装置により、異なる運動エネルギーを持つガス分子を試料表面に供給することができる。
放射光光電子分光の他、昇温脱離分析、STM/AFM、LEED/AESを利用した反応ダイナミクスの観察ができる。

利用例

[BL23SU]軟X線光電子分光装置

高分解能光電子分光による希土類、遷移金属、ウラン・アクチノイドなどの強相関電子系物質の電子構造、化学結合などの測定ができる。
角度分解光電子分光(ARPES)測定も可能な光電子分光装置。希土類及び3d遷移金属化合物の詳細な電子構造を調べることができる。
光エネルギー:400-1500 eV、エネルギー分解能:50-200 meV、試料温度:6-300 K

利用例